同济大学学报(自然科学版)

作者：唐玉霖，曲鑫璐，刘倩宏，张天阳，徐斌

单位：1.同济大学 污染控制与资源化研究国家重点实验室，上海 200092;2.同济大学 环境科学与工程学院，上海 200092

关键词：紫外,高级氧化技术,抗生素,氯霉素

基金：国家自然科学基金（21776224）

为了实现紫外高级氧化技术在实际水处理中去除抗生素的应用，以氯霉素（CAP）为研究对象，对比了静态试验中紫外技术，连续流下单独紫外技术、紫外高级氧化技术（UV/H2O2、UV/PS）对氯霉素的去除效能。进一步分析了连续流下紫外光强、紫外光波长、停留时间、氧化剂投加量、氯霉素初始浓度和原水水质等因素对去除效果的影响。研究发现静态流单独紫外对于氯霉素120 min照射后，降解率大于80%，降解速率符合一阶动力学。实际连续流应用情况受停留时间限制，单独紫外氧化技术对氯霉素去除率较低。相同停留时间下，基于紫外UV/H2O2和UV/PS高级氧化技术对氯霉素的去除率大幅提高，分别达到58%和43%，紫外光激活氧化剂产生强氧化自由基（OH·，SO42-·），起到主要作用。同时增大紫外光强、氧化剂投加量及降低氯霉素的初始浓度会增加氯霉素的降解效能。研究发现原水中存在的无机和有机污染物会降低紫外高级氧化技术对氯霉素的去除效率，但能同步去除原水中常规污染物，为基于紫外高级氧化技术的实际水处理推广应用提供了可能。

来源：2021年第9期

《同济大学学报(自然科学版)》期刊编辑部

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